
自2020年下半年以来,全球半导体产业出现了缺芯的局面。缺芯的原因主要有以下几点:
(1)2019年以前手机芯片需求远大于汽车芯片需求,许多晶圆厂将汽车芯片产线改造成了手机芯片产线,导致全球的汽车芯片产能大大减少。2020年下半年后新能源汽车需求增长,汽车芯片订单大增,下游晶圆厂完全没有准备。
(2)新冠疫情导致半导体行业整体的产能受到冲击。半导体行业在2020年汽车芯片需求暴增、中美脱钩等因素的叠加下,进入了一个新的高速发展期。行业投资力度不断加大,处于产业链制造环节的国内晶圆厂商纷纷加大资本开支,扩大产能、攻克先进制程,对上游半导体设备的需求不断增长。同时因为中美脱钩带来的半导体设备国产化的必要性,半导体设备的国产化率有望快速提高,国内半导体设备厂商将从中受益。
半导体作为一个全球化的产业链,全球分工明确,国内承担的更多是成熟制程的制造环节以及封测环节,在上游的芯片设计以及半导体设备制造相对欠缺。中美脱钩以后,美国封锁中国半导体产业,打造国内半导体全产业链至关重要。
在全球的半导体设备产业中,美日企业优势明显,市场集中度高,CR10高达76.6%。2020年全球营收前十的半导体设备企业中,有四家美国公司、四家日本公司以及两家荷兰企业。其中,营收超过100亿美元的企业共有四家,分别为美国应用材料(AMAT)、荷兰ASML、美国泛林半导体(LamResearch)以及日本东京电子(TEL)。
国家和地区
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企业
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涉足领域
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2020年营收(百万美元)
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美国
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应用材料
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薄膜沉积设备、离子注入设备、刻蚀设备、CMP、热处理设备、光掩模等
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16365
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荷兰
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ASML
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光刻机
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15396
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美国
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泛林半导体
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薄膜沉积设备、清洗设备、刻蚀设备
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11929
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日本
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东京电子
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刻蚀设备、涂胶显影设备、清洗设备、薄膜沉积设备
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11321
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美国
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科天
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前道量测设备
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5443
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日本
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爱德万
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检测设备
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2531
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日本
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SCREEN
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涂胶显影设备、清洗设备
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2331
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美国
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泰瑞达
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检测设备
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2259
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日本
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HitachiHigh-Tech
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前道量测设备、刻蚀设备
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1717
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荷兰
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ASMI
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薄膜沉积设备
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1516
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国内半导体设备行业起步较晚,总体营业规模上与海外巨头差距较大,但近年来国内企业不断加大投入,在技术上不断做出关键性的突破,打破了许多领域的空白,部分细分市场已开始实现国产替代。例如,中微刻蚀机研发已到达5nm的技术节点;北方华创和拓荆的薄膜沉积设备已达到14/28nm的技术节点;至纯科技的清洗设备打入了中芯国际、华虹等企业的供应链;华峰测控的测试机打入了日月光、意法半导体等国际封测龙头的供应链。
设备类型
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产品
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公司
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发展进程
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光刻设备
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光刻机
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上海微电子
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技术节点为90nm,与ASML等差距较大
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刻蚀设备
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刻蚀机
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中微公司
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技术节点达到5nm
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北方华创
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技术节点达到28nm
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清洗设备
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单片式清洗设备/槽式清洗设备
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至纯科技
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可提供28nm全部湿法工艺
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盛美半导体
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可提供14nm晶圆清洗
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北方华创
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可提供28nm晶圆清洗
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离子注入设备
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离子注入机
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中科信
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完成了中束流、大束流、高能、特种四大产品布局
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薄膜沉积设备
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PVD/CVD/ALD
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北方华创
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技术节点达到14/28nm
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CVD/ALD
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拓荆
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技术节点达到14/28nm
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后道检测
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测试机
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华峰测控
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技术指标接近全球龙头水平
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测试机/分选机
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长川科技
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技术指标接近全球龙头水平
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涂胶显影设备
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涂胶机/显影机/喷胶机
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芯源微
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技术节点达到28nm
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