真空蒸发镀膜是指在真空条件下，利用膜材加热装置(称为蒸发源)的热能， 通过加热蒸发某种物质使其沉积在基板材料表面的一种沉积技术。被蒸发的物质是用真空蒸发镀膜法沉积薄膜材料的原材料，称之为蒸镀材料。根据化学成分的不同，蒸镀材料可以划分为金属及非金属颗粒、氧化物、氯化物等。
真空蒸发镀膜系统一般由三个部分组成:真空室、蒸发源或蒸发加热装置、放置基板及给基板加热装置。在真空中为了蒸发待沉积的材料，需要容器来支撑或盛装蒸发物，同时需要提供蒸发热使蒸发物达到足够高的温度以产生所需的蒸汽压。
真空蒸发镀膜技术起源于 1857 年法拉第首次使金属在真空中蒸发成膜，具有简单便利、操作方便、成膜速度快等特点，是真空镀膜技术中开发时间最早，应用领域最广的一种薄膜沉积方法，主要应用于小尺寸基板材料的镀膜，如光学元器件、LED、平板显示和半导体分离器等。
参考观研天下发布《2018-2024年中国节能镀膜玻璃产业市场竞争现状调研与投资战略评估研究报告》
图表：蒸镀材料分类
图表来源：公开资料整理
真空蒸发镀膜系统一般由三个部分组成:真空室、蒸发源或蒸发加热装置、放置基板及给基板加热装置。在真空中为了蒸发待沉积的材料，需要容器来支撑或盛装蒸发物，同时需要提供蒸发热使蒸发物达到足够高的温度以产生所需的蒸汽压。
图表：真空蒸发镀膜工作原理
图表来源：公开资料整理
真空蒸发镀膜技术起源于 1857 年法拉第首次使金属在真空中蒸发成膜，具有简单便利、操作方便、成膜速度快等特点，是真空镀膜技术中开发时间最早，应用领域最广的一种薄膜沉积方法，主要应用于小尺寸基板材料的镀膜，如光学元器件、LED、平板显示和半导体分离器等。
参考观研天下发布《2018-2024年中国节能镀膜玻璃产业市场竞争现状调研与投资战略评估研究报告》
图表：部分蒸镀材料产品
图表来源：公开资料整理
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