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百亿基石—半导体设备精密零部件行业细分垄断 光学等关键领域高端化困境仍存

一、半导体设备精密零部件年产值达百亿美元,产业辐射力强劲

高精密零部件是半导体设备产业链根基,其支撑着半导体设备行业,继而支撑半导体芯片制造和整个现代电子信息产业。半导体设备升级离不开精密零部件技术突破,这类零部件作为设备基石支撑行业发展,是制造环节中“卡脖子”的高难度领域。其直接影响设备交付与产值。半导体设备高精密零部件年产值达百亿美元,产业辐射力强劲。

高精密零部件是半导体设备产业链根基,其支撑着半导体设备行业,继而支撑半导体芯片制造和整个现代电子信息产业。半导体设备升级离不开精密零部件技术突破,这类零部件作为设备基石支撑行业发展,是制造环节中“卡脖子”的高难度领域。其直接影响设备交付与产值。半导体设备高精密零部件年产值达百亿美元,产业辐射力强劲。

资料来源:观研天下整理

二、半导体设备成本构成中,光学类精密零部件价值量占比较高

半导体设备精密零部件具有高精密、高洁净、超强耐腐蚀能力、耐击穿电压等特性,生产工艺涉及精密机械制造、工程材料、表面处理特种工艺、电子电机整合及工程设计等多个学科,品类覆盖多个细分领域。

半导体设备精密零部件生产工艺涉及多个学科

技术种类 应用要求
精密机械制造技术 基于半导体设备对精密零部件的高精密和高洁净的需求,精密机械制造技术需要围绕精准的加工工艺路线和程序的开发、材料科学和材料力学与零件结构和加工参数的匹配、制造方式与产业模式的匹配,来高质量输出高精密的产品。精密零部件制造商在满足客户半导体设备的功能性需求的同时,通过机械制造精度和所加工材料的精准把控,提升半导体设备的整体性能及使用寿命。
表面处理特种工艺技术 随着半导体设备向更先进的工艺制程演进,对于精密零部件的高洁净、超强耐腐蚀、耐击穿电压等性能提出了越来越严苛的要求,精密零部件的表面处理特种工艺是实现前述性能需求的关键工序。一般表面处理特种工艺技术分为干式制程和湿式制程,干式制程包括抛光、喷砂及喷涂等;湿式制程包括化学清洗、阳极氧化、化学镀镍以及电解抛光等。
焊接技术 目前,半导体设备精密零部件对于焊接技术的需求不仅体现在结构上要满足零部件的不同尺寸及密封性能,还需要精密零部件制造商针对焊接工艺、焊接参数、焊接材料、焊接环境等方面进行研究,实现半导体设备精密零部件焊接区域的零气孔、零裂纹、零瑕疵,保证半导体设备零部件的产品性能及使用寿命,以最终实现真空环境下的半导体设备工艺制程的稳定。

资料来源:观研天下整理

在半导体设备成本构成中,精密零部件价值量占比极高,90%以上为原材料(即不同类型的精密零部件产品)。其中,光学类价值量占比较高,为55%。

半导体设备不同精密零部件简介

分类

占设备成本的比例

零部件具体类别

技术要求

所应用的主要设备

在设备中发挥的主要作用

机械类

20%-40%

金属工艺件:反应腔、传输腔、过渡腔、内衬、匀气盘等 金属结构件:托盘、冷却板、底座、铸钢平台等 非金属机械件:石英、陶瓷件、硅部件、静电卡盘、橡胶密封件等

满足加工精度、耐腐蚀性、密封性、洁净度、真空度等指标

应用于所有设备

设备中起到构建整体框架、基础结构、晶圆反应环境和实现零部件特殊功能的作用,保证反应良率,延长设备使用寿命

电气类

10%-20%

射频电源、射频匹配器、远程等离子源、供电系统、工控电脑等

满足输出功率的稳定性、电压质量、波形质量、频率质量等指标

应用于所有设备

在设备中起到控制电力、信号、工艺反应制程的作用

机电一体类

10%-25%

EFEM、机械手、加热带、腔体模组、阀体模组、双工机台、浸液系统、温控系统等

满足真空度、洁净度、放气率、SEMI定制标准等指标,同时保证多次使用后的一致性和稳定性,不同具体产品要求差别较大

应用于所有设备,其中双工机台和浸液系统仅用于光刻设备

在设备中起到实现晶圆装载、传输、运动控制、温度控制的作用,部分产品包含机械类产品

气体/液体/真空系统类

10%-30%

气体输送系统类:气柜、气体管路、管路焊接件等

满足真空度、耐腐蚀性、洁净度、SEMI定制标准等指标

主要应用于薄膜沉积设备、刻蚀设备和离子注入设备等干法设备

在设备中起到传输和控制特种气体、液体和保持真空的作用

真空系统类:干泵、分子泵、真空阀门等

满足抽气后的真空指标、可靠性、稳定性、一致性等指标

主要应用于薄膜沉积设备、刻蚀设备和离子注入设备等干法设备

气动液压系统类:阀门、接头、过滤器、液体管路等

满足真空度、表面粗糙度、洁净度、使用寿命、耐液体腐蚀等指标

主要应用于化学机械抛光设备、清洗设备等湿法设备

仪器仪表类

1%-3%

气体流量计、真空压力计等

满足量程时间、流量测量精度、温度测量精度、压力测量精度、温度影响小等指标

应用于所有设备

在设备中起到控制和监控流量、压力、真空度、温度等数值的作用

光学类

55%

光学元件、光栅、激光源、物镜等

满足制造精度、分辨率、曝光能力、光学误差小等指标

主要应用于光刻设备、量测设备等

在光学设备中起到控制和传输光源的作用

其他

3%-5%

定制装置、耗材等

满足相应设备要求的定制化指标

应用于所有设备

实现设备运行的作用

资料来源:观研天下整理

三、半导体设备精密零部件细分领域垄断特征明显,中国在高端领域仍面临技术壁垒和进口依赖风险

根据观研报告网发布的《中国半导体设备精密零部件行业发展趋势分析与未来前景预测报告(2026-2033年)》显示,半导体精密零部件品类多样,整体市场分散,但细分领域垄断特征明显。因半导体零部件对精度和品质要求极高,单一品类通常仅由少数几家供应商提供,导致全行业集中度约50%,但细分品类市场集中度普遍达80%-90%。

半导体精密零部件品类多样,整体市场分散,但细分领域垄断特征明显。因半导体零部件对精度和品质要求极高,单一品类通常仅由少数几家供应商提供,导致全行业集中度约50%,但细分品类市场集中度普遍达80%-90%。

数据来源:观研天下数据中心整理

半导体设备市场长期由国际厂商占据主导地位,其配套的精密零部件供应链亦高度集中于美国、日本及中国台湾地区。全球半导体设备精密零部件领军供应商包括:蔡司(ZEISS,光学镜头)、万机仪器(MKS,MFC、射频电源及真空产品)、爱德华(Edwards,真空泵)、先进能源(Advanced Energy,射频电源)、堀场(Horiba,MFC)、徽拓(VAT,真空阀件)、Ichor(模块化气体输送系统及其他组件)、超科林(Ultra Clean Tech,密封系统)、阿斯麦尔(ASML,光学部件)以及荏原(EBARA,干泵)等企业,这些厂商凭借技术积累与先发优势,构建了稳固的全球供应体系。

相较之下,中国大陆零部件厂商的发展路径呈现差异化特征。目前,国内企业主要聚焦于特定工艺环节或单一产品领域的突破,其中机械类零部件(如金属腔体、结构件)以及气体/液体/真空系统类零部件(如真空泵、阀门)的国产化进程相对较快,已实现一定程度的国产化替代。但在高端射频电源、高精度光学元件等关键领域,国际企业占据主导,国内厂商则仍面临显著的技术壁垒,供应链自主可控能力不足,存在较高的进口依赖风险。

半导体设备不同精密零部件市场竞争情况

分类 国际主要企业 国内主要企业 国产化率 技术突破难度
机械类 金属类:京鼎精密、Ferrortec 等 非金属类:Ferrotec、Hana、台湾新鹤、美国杜邦等 金属类:富创精密、靖江先锋、托伦斯、江丰电子(少量产品)等 非金属类:菲利华(石英零部件)、神工股份(硅部件)等 品类繁多,国内已出现富创精密等进入国际半导体设备厂商的供应商,整体国产化率相对较高,但高端产品国产化率较低 作为应用最广,市场份额最大的零部件类别,具体品类繁多,主要产品技术已实现突破和国产替代,应用于高制程设备的产品技术突破难度仍较高
电气类 Advanced Energy、MKS 等 英杰电气、北方华创(旗下的北广科技)等 对于核心模块(射频电源等),国内企业尚未进入国际半导体设备厂商,少量应用于国内半导体设备厂商,主要应用于光伏、LED 等泛半导体设备,国产化率低,高端产品尚未国产化 设备中作为控制工艺制程的核心部件,技术突破难度较高
机电一体类 京鼎精密、BrooksAutomation、Rorze、ASML(自产双工机台和浸液系统)等 富创精密、华卓精科(双工机台)、新松机器人(机械手)、京仪自动化(温控系统)等 品类较为繁多,国内已出现富创精密等进入国际半导体设备厂商的供应商,大多品类国内厂商主要供应国内半导体设备厂商,整体国产化率不高,功能复杂的高端产品未国产化 品类繁多,部分产品已实现技术突破,但产品稳定性和一致性与国外有差距,技术难度适中
气体/液体/真空系统类 超科林、Edwards、Ebara、MKS 等 富创精密、万业企业(收购的 Compart System)、新莱应材、沈阳科仪、北京中科仪等 品类较为繁多,少数企业通过自研或收购部分产品已进入国际半导体设备厂商,整体国产化率处于中等水平,大部分品类的高端产品未国产化 品类繁多,部分产品已实现技术突破,但产品稳定性和一致性与国外有差距,技术难度适中
仪器仪表类 MKS、Horiba 等 北方华创(旗下的七星流量计)、万业企业(收购的Compart System)等 国内企业通过收购进入国际半导体设备厂商,国内企业自研产品仅少量用于国内半导体设备厂商,由于产品成本占比较低,国内企业主要以采购进口产品为主,国产化率低,高端产品尚未国产化 对测量的精准度要求极高,国产化率低,技术突破难度较高
光学类 Zeiss、Cymer、ASML 北京国望光学科技有限公司、长春国科精密光学技术有限公司等 国内企业尚未进入国际半导体设备厂商,已少量应用于国内光刻设备,国产化率较低,高端产品尚未国产化 对光学性能要求极高,鉴于光刻设备国际市场高度垄断,高端产品一家独大,国内光刻设备尚在发展,相应配套光学零部件国产化率低,技术突破难度较高

资料来源:观研天下整理

从半导体光学系统市场竞争情况看,蔡司、尼康、佳能、Newport、Jenoptik、徕卡等国际企业占据半导体光学系统市场超70%份额,处于领先地位。国内参与厂商有北京国望光学、长春国科精密光学、茂莱光学、波长光电、科益虹源、福晶科技、福光股份等,仍处于追赶阶段。

从半导体光学系统市场竞争情况看,蔡司、尼康、佳能、Newport、Jenoptik、徕卡等国际企业占据半导体光学系统市场超70%份额,处于领先地位。国内参与厂商有北京国望光学、长春国科精密光学、茂莱光学、波长光电、科益虹源、福晶科技、福光股份等,仍处于追赶阶段。

数据来源:观研天下数据中心整理(zlj)

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